中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超判别光刻机
|
中科院光电所的 7 年试探
这台光刻机背后的研究机构是中科院光电所。 带头完成这项研发使命的，是中科院光电所所长、超判别光刻设备项目首席科学家、中国科学院大学传授&博导罗先刚研究员。
罗先刚在光电规模的学术职位从他的一长串 title 中可见一斑： 微细加工光学技能国度重点尝试室主任，国度 973 打算首席科学家，曾获 2016 年度国度技能发现一等奖，，2017 年中国工程院院士增选有用候选人，国度精巧青年科学基金得到者，中组部首批万人打算科技领武士才、2009 年“新世纪百万万人才工程”国度级人选，2004 年中科院“百人打算”入选者，中国光学学会、美国光学学会、国际光学工程学会、国际光电子与激光工程学会四大学会成员（Fellow）。 从 1995 年在中科院光电技能研究所读硕士开始，罗先刚已经从事光电规模 20 余年了，在中科院光电技能研究所读完硕士和博士后，他去了日本理化学研究所做博士后和研究科学家。 2004 年，罗先刚回到了他念书的中科院光电技能研究所，开始接受研究员。20 余年的光电学术之路上，他不只颁发了 SCI 收录论文 100 余篇，还带出了数十名优越的硕士博士生。
项目副总师胡松也是中科院光电技能研究所的研究员、中国科学院大学博导，在光学投影曝光微纳加工技能、 微细加工光刻技能有富厚的履历，享受国务院当局补助，曾主持多个国度级、部委级、省级科研项目，颁发十余项专利技能。 中科院光电所完成这项打算用了 7 年。 按照经济日报报道，2012 年，中科院光电所包袱了超判别光刻设备这一国度重大科研设备项目研制使命，其时并没有任何海外成熟履历可小心。 7 年来，项目组打破了高匀称性照明、超判别光刻镜头、纳米级判别力检焦及间隙丈量和超慎密、多自由度工件台及节制等要害技能，完成国际上首台判别力最高的紫外超判别光刻设备研制，其回收 365 纳米波长光源，单次曝光最高线宽判别力到达 22 纳米(约1/17 曝光波长)。 在此基本上，项目组还团结超判别光刻设备项目开拓的高妙宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了 10 纳米以下特性尺寸图形的加工。 其它，这个项目还颁发了论文 68 篇，申请国度发现专利 92 项，个中授权 47 项，申请国际专利 8 项，授权 4 项，为国度作育了一支超判别光刻技能和设备研发团队。 【编辑保举】
点赞 0 （编辑：湖南网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
