台积电技能蹊径图:2纳米3纳米工艺将定时推出
发布时间:2021-05-01 08:57:23 所属栏目:业界 来源:网易科技报道
导读:4月27日动静,台积电近期更新了其制程工艺蹊径图,称其4纳米工艺芯片将在2021年底进入“风险出产”阶段,并于2022年实现量产;3纳米产物估量在2022年下半年投产, 2纳米工艺正在开拓中。 在产能方面,没有任何竞争敌手能威胁到台积电的主导职位,并且将来几
魏哲家暗示:“N3将是我们继N5之后的又一次全面节点超过,它将行使FinFET晶体管布局为我们的客户提供最好的技能成熟度、机能和本钱。我们的N3技能开拓盼望精采。与N5和N7对比,我们继承看到N3的HPC和智妙手机应用客户参加度要高得多。” 究竟上,台积电声称客户对N3的参加度越来越高,间接地表白了其对N3寄予了厚望。魏哲家说:“N3的风险出产估量在2021年启动,量产方针是在2022年下半年。我们的N3技能推出后,将成为PPA和晶体管技能中最先辈的代工技能。我们有信念,我们的N5和N3都将成为台积电大局限和耐久行使的节点工艺。” 逾越N3 (编辑:湖南网) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |