三星公布将全面推进EUV工艺辅佐量产DDR5内存
发布时间:2020-03-26 19:20:10 所属栏目:电商 来源:尹航
导读:跟着制程节点迈入7nm,EUV极紫外光刻工艺将在将来的半导体芯片制造上成为主流。克日,三星公布将率先为DRAM内存颗粒出产引入EUV工艺。 三星暗示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,2021年大局限量产的DDR5和LPDDR5内存芯片
跟着制程节点迈入7nm,EUV极紫外光刻工艺将在将来的半导体芯片制造上成为主流。克日,三星公布将率先为DRAM内存颗粒出产引入EUV工艺。 三星暗示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,2021年大局限量产的DDR5和LPDDR5内存芯片将因此受益,估量会使12英寸晶圆的出产率翻番。 按照三星此前判定,EVU工艺将辅佐其将制程节点 推进到3nm,那么在将来7nm、5nm制程节点上,EUV将施展极大浸染。 三星星曜930SBE-K03 酷睿8代处理赏罚器,核芯显卡,触控屏,轻浮本 进入购置 三星星曜930SBE-K01 第八代英特尔酷睿i5,核芯显卡,触控屏,轻浮本 进入购置 (编辑:湖南网) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |