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三星公布将全面推进EUV工艺辅佐量产DDR5内存

发布时间:2020-03-26 19:20:10 所属栏目:电商 来源:尹航
导读:跟着制程节点迈入7nm,EUV极紫外光刻工艺将在将来的半导体芯片制造上成为主流。克日,三星公布将率先为DRAM内存颗粒出产引入EUV工艺。 三星暗示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,2021年大局限量产的DDR5和LPDDR5内存芯片

  跟着制程节点迈入7nm,EUV极紫外光刻工艺将在将来的半导体芯片制造上成为主流。克日,三星公布将率先为DRAM内存颗粒出产引入EUV工艺。

三星

  三星暗示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,2021年大局限量产的DDR5和LPDDR5内存芯片将因此受益,估量会使12英寸晶圆的出产率翻番。

  按照三星此前判定,EVU工艺将辅佐其将制程节点 推进到3nm,那么在将来7nm、5nm制程节点上,EUV将施展极大浸染。

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(编辑:湖南网)

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