狂购最先进EUV光刻机：台积电开始为1nm制程做准备

之前有动静称，台积电正在筹集更多的资金，为的是向ASML购置更多更先辈制程的EUV光刻机，而这些都是为了新制程做筹备。

在不久前举行的线上勾当中，欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中暗示，在与ASML公司的相助下，越发先辈的光刻机已经取得了盼望。

Luc Van den hove暗示，IMEC的方针是将下一代高判别率EUV光刻技能高NA EUV光刻技能贸易化。因为此前得光刻机竞争敌手早已经延续退出市场，今朝ASML掌握着环球首要的先辈光刻机产能，连年来，IMEC一向在与ASML研究新的EUV光刻机，今朝方针是将工艺局限缩小到1nm及以下。

今朝ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光体系的根基计划，至于装备的贸易化。要比及至少2022年，而比及台积电和三星拿到装备，之前要在2023年。

与此同时，台积电在原料上的研究，也让1nm成为也许。台积电和交大联手，开拓出环球最薄、厚度只有0.7纳米的超薄二维半导体原料绝缘体，可望借此进一步开拓出2纳米乃至1纳米的电晶体通道。

据悉，台积电正为2nm之后的先辈制程一连觅地，包括桥头科、路竹科，均在台积电评估中恒久投资设厂的考量之列。

（编辑：湖南网）

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