方寸之困：纳米级芯片通关路

可是，在业内屡屡以为已经迫近摩尔定律极限的环境下，芯片的制程工艺都又在不绝打破新的记录。芯片在纳米级制程工艺上的晋升，将带来晶体管密度的继承增进，这可以使得芯片包括更多种类的专用电路。这意味着，一个芯片可以挪用差异的专用电路，执行包罗一些优化的 AI 算法和其他针对差异范例的专门计较。

虽然，半导体伟大性的增进，也意味着先辈芯片制造的本钱的大幅攀升，个中包罗高端人才的需求，高端光刻机装备的采购等。当牢靠本钱的增添高出了大大都半导体企业的利润增添，导致了在先辈芯片的制造上形成了更高的进入壁垒，可以或许进入先辈节点出产的晶圆代工场数目正在镌汰。

对付我国来说，正如开头提到到，除了高企的本钱和研发用度外，尚有商业限定等其他非技能身分，我国自研的光刻机设备还逗留在 22nm 的光刻工艺程度上。

我们在看到国产半导体装备财富实现打破的同时，也要沉着地熟悉到我们与国际先辈芯片工艺上面的庞大差距。

从筚路蓝缕到砥砺前行，如故是将来海内半导体财富的必由之路。

（编辑：湖南网）

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