媒体：国产22纳米光刻机治不了中国的"芯"病

（原问题：国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病！）

高博

11月29日，中科院研制的“超判别光刻设备”通过验收。动静传着传着，就成了谎言——《国产光刻机巨大打破，国产芯片白菜化在即》《打破荷兰技能封闭，弯道超车》《锋利了我的国，新式光刻机将冲破“芯片荒”》……

笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会，写了报道，还算认识，无法苟统一些漫无边际的瞎扯。

中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用自制光源实现较高的判别率，用于一些非凡制造场景，很经济。

先表明下：光刻机不仅是制造芯片用。一张平面（岂论硅片照旧什么原料）想刻出繁复的图案，都可以用光刻——就像摄影，图像投在感光底片上，蚀掉一部门。半个多世纪前，美国人用这个道理“印刷”电路，从而有了大局限集成电路——芯片。

为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极度。线条细到必然水平，投影就恍惚了。要清楚投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。

但不变的、大功率的极紫外光源很难造，一个得3000万元人民币。要求事变情形严苛，共同的光学和机器部件又极度慎密，以是荷兰的ASML公司独家把持极紫外光刻机，缔造了“一台卖一亿美金”的神话。

十几年前，国际上开始对外貌等离子体（surface plasma，SP）光刻法感乐趣。中科院光电所从2003年开始研究，是较早出成就的一个团队。所谓SP，光电所的科学家杨勇向笔者表明：拿一块金属片和非金属片亲昵打仗，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地动荡，，发生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。

但这种电磁波很弱，以是光刻胶得凑近了，才气刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的，至少以此刻的技能不能。

验收会上也有记者问：该光刻装备能不能刻芯片，冲破海外把持？光电所专家答复说，用于芯片必要攻陷一系列技能困难，间隔还很迢遥。

总之，中科院的22纳米判别率光刻机跟ASML把持的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就仿佛说中国出了个赛跑名将要逾越博尔特。

各家媒体第一时刻报出的信息，就我看到的还算中规中矩。但其后网媒节外生枝，搞到离谱。有些撒播者为吸引眼球、赚钱，最爱制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成绩先往大里吹，驴吹成马，马吹成骆驼，好卖个骆驼价。

这种“科技报道”是满意虚荣心的伪消息。行家听了眉头一紧，避之大吉。也难怪很多科学家怕上消息。

本文来历：科技日报社-中国科技网 责任编辑：王凤枝_NT2541

（编辑：湖南网）

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