“超判别光刻设备项目”通过国度验收 可加工22纳米芯片

原问题：“超判别光刻设备项目”通过国度验收 可加工22纳米芯片

PingWest品玩11月29日讯，按照新华社报道，国度重大科研设备研制项目“超判别光刻设备研制”通过验收。该光刻机由中科院光电所研制，光刻判别力到达 22 纳米，团结双重曝光技能后，将来还可用于制造 10 纳米级此外芯片。

报道称，项目在道理上打破判别力衍射极限，成立了一条高判别、大面积的纳米光刻设备研发新蹊径，绕过海外相干常识产权壁垒。

光刻机是制造芯片的焦点设备，它回收相同照片冲印的技能，把母版上的风雅图形通过曝光转移至硅片上，一样平常来说，光刻判别力越高，加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技能因为受到光学衍射效应的影响，判别力进一步进步受到很大限定。为得到更高判别力，传统上回紧收缩光波、增进成像体系数值孔径等技能路径来改造光刻机，，但技能难度极高，设备本钱也极高。

更多出色请存眷我们的微信公家号：wepingwest

消息线索请投稿至：wire@pingwest.com

（编辑：湖南网）

【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容!